Hochtemperatur-Polyimid-Vakuumstabspitze für spezielle Handhabung von Substraten zu/von einer Platte, Verdampfer, Heizplatte oder flacher Oberfläche in einer Reinraumumgebung. Verfügt über scharfkantiges Profil mit einer Vakuumtasche, die für den sicheren Umgang mit Silizium und Glaswafern konzipiert ist. Press-Fit-Typ-Installation, umfasst Spitze, Rohr und Adapter – vollständig montiert. Für die Handhabung von 150-mm-Wafer-Substraten. ISO Klasse 3.






