Hochtemperatur-Polyimid-Vakuumstabspitze für spezielle Handhabung von Substraten zu/von einer Platte, Verdampfer, Heizplatte oder flacher Oberfläche in einer Reinraumumgebung. Verfügt über ein scharfkantiges Profil mit einer Vakuumtasche, die für den sicheren Umgang mit SEMI 200mm Siliziumwafern konzipiert ist. Press-Fit-Typ-Installation, umfasst Spitze, Rohr und Adapter – vollständig montiert. Für die Handhabung von 200-mm-Wafer-Substraten. ISO Klasse 3.