Antistatisch leitfähige PEEK-Vakuumstabspitze für die allgemeine Handhabung von Substraten in einer Reinraumumgebung. Verfügt über eine 3° versetzte Vakuumtasche mit gebogenen Profilen mit 10° oder 30° verfügbarer Installation, Einpressmontage. Für das Handling von 50 mm bis 300 mm Silizium-, Glas-, Dünn- und Verbindungswafersubstraten. ISO-Klasse 3.






